发明名称 自动分析装置
摘要 在一实施方式中提供一种自动分析装置,该装置包括:喷嘴、第1以及第2变更单元、清洗水供给单元以及控制单元。控制单元分别控制第1变更单元、第2变更单元以及上述清洗水供给单元,使得作为第1工序形成从喷嘴的流路吐出流体的第1流路状态,作为第2工序而在上述第1工序后形成上述喷嘴的开口位于清洗剂中的第2开口状态和将流体吸入到流路的第2流路状态,作为第3工序而在第2工序后形成第1流路状态,作为第4工序而在第3工序后或与第3工序并行地有以形成第1开口状态并向喷嘴的外壁供给清洗水。
申请公布号 CN102313816B 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201110140202.2 申请日期 2011.05.27
申请人 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社 发明人 杉村友弘;金山省一
分类号 G01N35/10(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I;B08B9/093(2006.01)I 主分类号 G01N35/10(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 张丽
主权项 一种自动分析装置,其特征在于,包括:喷嘴,具有流路以及使该流路向外部开放的开口;清洗槽,在内部具有上方开放的空间,在该空间内进行上述喷嘴的清洗,在上述清洗槽的下部壁,在位于从上述喷嘴吐出的液状物的轨迹上形成排液口,在上述清洗槽的侧壁形成供给口;第1变更单元,以选择性地形成多个流路状态的方式变更上述流路的状态,上述多个流路状态至少包含从上述流路吐出流体的第1流路状态以及将流体吸入到上述流路的第2流路状态;第2变更单元,以选择性地形成多个开口状态的方式变更上述开口的状态,上述多个开口状态至少包含上述开口位于空气中的第1开口状态以及上述开口位于清洗剂中的第2开口状态;清洗水供给单元,向上述喷嘴的外壁经由上述供给口供给清洗水;以及控制单元,分别控制上述第1变更单元、上述第2变更单元以及上述清洗水供给单元,使得作为第1工序而通过形成上述第1流路状态将上述流路内的上述液状物和上述流路内的内部水吐出,作为第2工序而在上述第1工序后通过形成上述第2开口状态和上述第2流路状态将上述清洗剂吸入到上述流路,作为第3工序而在上述第2工序后通过形成上述第1流路状态将吸入到上述流路内的上述清洗剂和上述内部水吐出,作为第4工序而在上述第3工序后或者与上述第3工序并行地以通过形成上述第1开口状态并供给上述清洗水而清洗上述喷嘴的外壁。
地址 日本东京都