发明名称 感放射线性组成物、保护膜、层间绝缘膜、及其形成方法
摘要 本发明系提供感放射线性组合物,其系可以形成透明性、耐热性等优异,同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜,而且具有足够解析度。本发明的感放射线性组合物包括:[A]矽氧烷聚合物,[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种矽烷化合物,以及[C]感放射线性酸产生剂或感放射线性碱产生剂。[A]矽氧烷聚合物较佳为式(4)的水解性矽烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]感放射线性酸产生剂较佳为使用选自由三苯基鋶盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。;(1);(3);(4)
申请公布号 TWI467335 申请公布日期 2015.01.01
申请号 TW099118305 申请日期 2010.06.07
申请人 JSR股份有限公司 日本 发明人 上田二朗;高濑英明;藤冈昌泰;露木亮太
分类号 G03F7/075;G03F7/004;C08L83/04;H01L21/027;G02F1/1333 主分类号 G03F7/075
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种感放射线性组成物,其包括:[A]矽氧烷聚合物,[B]选自由下式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种矽烷化合物,[C]感放射线性酸产生剂或感放射线性硷产生剂,以及[D]脱水剂;(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3(1)式(1)中,R1和R3各自独立地是碳原子数为1~4的烷基,R2是碳原子数为1~6的伸烷基、伸苯基或式(2)所示的基团,式(2)中,a是1~4的整数,式(3)中,R4、R5和R6各自独立地是碳原子数为1~4的烷基,b、c和d各自独立地是1~6的整数;其中,相对于[A]成分100质量份,[B]成分为30~70质量份,[C]成分为0.1~20质量份,[D]成分为0.1~50质量份;[A]矽氧烷聚合物是下式(4)所示的水解性矽烷化合物的水解缩合物,(R7)q-Si-(OR8)4-q(4)式(4)中,R7是碳原子数为1~20的非水解性的有机基团,R8是碳原子数为1~4的烷基,q是0~3的整数;使用选自由三苯基鋶盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种作为[C]感放射线性酸产生剂。
地址 日本