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经营范围
发明名称
用于感应耦合等离子体腔室的气体注入装置
摘要
一种用于感应耦合等离子体腔室的气体注入装置,该气体注入装置设置在感应耦合等离子体腔顶部,该气体注入装置包含射频窗以及设置在射频窗下表面的气孔阵列,该气体注入装置还包含设置在射频窗上表面的一个与所述气孔阵列联通的气体扩散空间,利用气密板气体扩散空间进行密封,气体源通过输气管道穿过所述气密板向所述气体扩散空间供应反应气体,该气孔阵列包含若干气孔。本发明省略了气体注入器,直接在射频窗上开气孔,气体输送区域更宽,气体输送更均匀,获得了更好的清洗效果,且无需使用金属屏蔽层,节省了工序,降低了成本。
申请公布号
TW201501196
申请公布日期
2015.01.01
申请号
TW103121315
申请日期
2014.06.20
申请人
中微半导体设备(上海)有限公司
发明人
吴 狄;倪图强;何 乃明;刘 身健
分类号
H01L21/306(2006.01);C23C14/48(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
黄信嘉谢炜勇
主权项
地址
中国
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