石墨膜及其制造方法

摘要

本发明提供一种石墨膜及其制造方法，所述石墨膜兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的制造方法的特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm²以上且100g／cm²以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。

主权项

一种石墨膜的制造方法，其特征在于，是对由高分子膜及/或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，所述高分子膜是聚酰亚胺膜，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g/cm²以上且100g/cm²以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。