| 发明名称 | 干燥装置和干燥处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明的干燥装置和干燥处理方法在短时间内高效率地去除在对基板上的有机材料膜进行干燥的干燥装置的处理容器内残留的溶剂。干燥装置(100)具备能够进行抽真空的处理容器(1)、在处理容器(1)内支承基板(S)的作为支承构件的载置台(3)、向处理容器(1)的内部照射紫外线的紫外线照射装置(5)以及控制部(6)。紫外线照射装置(5)作为溶剂分解单元而发挥功能，其在从处理容器(1)搬出已完成干燥处理的基板(S)之后，将残留在处理容器(1)内的溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN104228329A | 申请公布日期 | 2014.12.24 |
| 申请号 | CN201410251369.X | 申请日期 | 2014.06.06 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 及川纯史;今田雄;户原淳志;大岛澄美;岛村明典;林辉幸 |
| 分类号 | B41F23/00(2006.01)I;B41M7/00(2006.01)I | 主分类号 | B41F23/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇 |
| 主权项 | 一种干燥装置，去除在基板的表面涂布的有机材料膜中的溶剂后进行干燥，其特征在于，具备：能够进行抽真空的处理容器；支承构件，其在上述处理容器内支承上述基板；以及溶剂分解单元，在从上述处理容器搬出已完成干燥处理的上述基板之后，该溶剂分解单元将残留在上述处理容器内的上述溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||