发明名称 光学泵浦垂直外腔表面发射激光设备
摘要 本发明涉及一种光学泵浦垂直外腔表面发射激光设备,该设备包括至少一个VECSEL(200)和若干泵浦激光二极管(300)。所述泵浦激光二极管(300)被布置成通过在镜元件(400)处反射泵浦辐射(310)而光学地泵浦VECSEL(200)的有源区(108)。镜元件(400)布置在VECSEL(200)的光轴(210)上并且被设计成将泵浦辐射(310)聚集在有源区(108)中并且同时形成VECSEL(200)的外部镜。所提出的设备避免了泵浦激光器的相对于VECSEL的有源区的耗时的调节,并且允许激光设备的非常紧凑的设计。
申请公布号 CN104247174A 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201380021857.5 申请日期 2013.04.11
申请人 皇家飞利浦有限公司 发明人 S. 格罗恩博尔恩;M. 米勒
分类号 H01S5/04(2006.01)I;H01S5/14(2006.01)I;H01S5/42(2006.01)I;H01S3/08(2006.01)I;H01S5/022(2006.01)I;H01S5/024(2006.01)I;H01S5/026(2006.01)I;H01S5/183(2006.01)I;H01S5/00(2006.01)I 主分类号 H01S5/04(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 张同庆;景军平
主权项 一种光学泵浦垂直外腔表面发射激光设备,包括至少一个垂直外腔表面发射激光器(200)和若干泵浦激光二极管(300),所述垂直外腔表面发射激光器(200)包括‑ 叠层,其至少形成垂直外腔表面发射激光器(200)的第一端镜(107,105)和有源区(108),以及‑ 第二端镜(410),其形成垂直外腔表面发射激光器(200)的外腔,所述泵浦激光二极管(300)被布置成通过在镜元件(400)处反射泵浦辐射(310)而光学地泵浦所述有源区(108),其中所述镜元件(400)布置在垂直外腔表面发射激光器(200)的光轴(210)上,并且被设计成将所述泵浦辐射(310)聚集在有源区(108)中并且同时形成垂直外腔表面发射激光器(200)的第二端镜(410)。
地址 荷兰艾恩德霍芬