发明名称 曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法
摘要 本发明涉及曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法。本发明的曝光装置,具备在涵盖除了投影光学系统(PL)正下方区域外的晶圆载台(WST1)移动范围的标尺板(21)上,使用晶圆载台(WST1)上搭载的四个读头(601~604)照射测量光束据以测量晶圆载台(WST1)的位置信息的编码器系统。此处,读头(601~604)的配置间隔(A、B)系设定为分别大于标尺板(21)的开口的宽度(a<sub>i</sub>、b<sub>i</sub>)。如此,视晶圆载台的位置从四个读头中切换并使用与标尺板对向的三个读头,即能测量晶圆载台的位置信息。
申请公布号 CN104238283A 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201410492152.8 申请日期 2010.08.24
申请人 株式会社尼康 发明人 柴崎祐一
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 曹瑾
主权项 一种曝光装置,透过投影光学系以照明光使物体的复数个区划区域分别曝光,该装置包括:载台,具有保持该物体的保持具;驱动系统,驱动该载台以使该物体在包含在与该投影光学系的光轴垂直的既定平面内彼此正交的第1、第2方向的6自由度方向移动;测量系统,具有设于该载台且对具有分别形成反射型光栅的四个部分的标尺构件从其下方分别照射测量光束的四个读头,测量在该6自由度方向的该载台的位置信息;以及控制系统,根据该测量系统测量的位置信息,控制该驱动系统对该载台的驱动,且在该载台的驱动中,将用于该测量的一个读头切换成其他读头;其中,该标尺构件,具有被该四个部分规定的开口,配置成使得在该第1、第2方向中该投影光学系位于该开口内;该四个读头关于该载台配置成在该第1方向的该四个读头中的二个读头的距离大于该开口的宽度,且在该第2方向的该四个读头中的二个读头的距离大于该开口的宽度;在该物体的曝光中该载台所移动的移动区域包含该四个读头中除了第1读头以外的三个读头分别与该四个部分中除了第1部分以外的三个部分对向的第1区域、该四个读头中除了异于该第1读头的第2读头以外的三个读头分别与该四个部分中除了异于该第1部分的第2部分以外的三个部分对向的第2区域、该四个读头中除了异于该第1、第2读头的第3读头以外的三个读头分别与该四个部分中除了异于该第1、第2部分的第3部分以外的三个部分对向的第3区域、该四个读头中除了异于该第1、第2、第3读头的第4读头以外的三个读头分别与该四个部分中除了异于该第1、第2、第3部分的第4部分以外的三个部分对向的第4区域、以及该四个读头分别与该四个部分对向的第5区域;该驱动系统在该物体的曝光中使该载台从该第1、第2、第3、第4区域的一个区域经由该第5区域移动至该第1、第2、第3、第4区域中与该一个区域不同的区域;以及该控制系统在该载台从该第5区域往该不同的区域的移动时,将该一个读头切换成该其他读头。
地址 日本东京