电浆制程设备（二）

摘要

一种电浆制程设备，包括一腔室，该腔室包括一电浆制程空间及一开启的顶部；一介电窗，该介电窗覆盖该腔室的该顶部；一窗框，该窗框支撑该介电窗；一天线，该天线系放置于该介电窗上，且引发电感耦合电浆(ICP)在该电浆制程空间中产生；一电容耦合电浆(CCP)框，该CCP框系安排于该天线的下方，且引发CCP在该电浆制程空间中产生；及一承受器，该承受器被安排于该电浆制程空间中，且在承受器上安放一基板作为待处理的一物件。以此配置，能够实现ICP及CCP两者，而有助于初始ICP的放电，防止归因于框的电浆减少，且改善制程速度。

主权项

一种电浆制程设备，该电浆制程设备包含：一腔室，该腔室包含一电浆制程空间及一开启的顶部；复数个介电窗，该等介电窗覆盖该腔室的该顶部；一窗框，该窗框支撑该介电窗；一天线，该天线被放置在该介电窗上，且引发电感耦合电浆(ICP)在该电浆制程空间中产生；一电容耦合电浆(CCP)框，该CCP框被安排在该天线的下方，且引发CCP在该电浆制程空间中产生；及一承受器，该承受器被安排在该电浆制程空间中，且在该承受器上安放一基板作为待处理的一物件，其中该CCP框系形成以在该CCP框中支撑该复数个介电窗的其中至少一个。