| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ermittlung von Verzeichnungseigenschaften eines optischen Systems in einer Messvorrichtung für die Mikrolithographie, wobei das optische System wenigstens eine Pupillenebene aufweist und wobei die Verzeichnungseigenschaften des optischen Systems auf Basis der Vermessung wenigstens eines Verzeichnungsmusters ermittelt werden, welches das optische System bei Abbildung einer vorgegebenen Struktur in einem Bildfeld erzeugt. Die Ermittlung der Verzeichnungseigenschaften des optischen Systems (100) erfolgt auf Basis einer Mehrzahl von Vermessungen von Verzeichnungsmustern, wobei sich diese Vermessungen hinsichtlich der jeweils in der Pupillenebene (PP2) vorliegenden Intensitätsverteilung voneinander unterscheiden. |
