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发明名称
リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびコンピュータプログラム
摘要
【解決手段】本発明は、ターゲット上の複数の場所の位置および/または回転を参照して、その場所を照射するために使用される複数のビームの強度値を決定することに関する。関連するリソグラフィ装置または露光装置、関連するデバイス製造方法、および関連するコンピュータプログラムも提供される。【選択図】図8
申请公布号
JP2014534646(A)
申请公布日期
2014.12.18
申请号
JP20140542758
申请日期
2012.11.06
申请人
发明人
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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