| 发明名称 | 硅片激光退火设备的工件台装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片激光退火设备的工件台装置，包括工件台平面和三组以上接送柱，每组接送柱由两个以上小接送柱组合而成；工件台平面上对应小接送柱的位置开孔，作为小接送柱的升降通道。本发明通过缩小单个接送柱的直径，用多个小接送柱组成一个接送柱，从而在保证硅片传输安全性的同时，增加了退火时硅片背面的支撑范围，改善了硅片在退火时的碎片问题。 | ||
| 申请公布号 | CN104217977A | 申请公布日期 | 2014.12.17 |
| 申请号 | CN201310215266.3 | 申请日期 | 2013.05.31 |
| 申请人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司;上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 童宇锋;郑刚;刘国淦 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人 | 丁纪铁 |
| 主权项 | 硅片激光退火设备的工件台装置，其特征在于，包括工件台平面和三组以上接送柱，每组接送柱由两个以上小接送柱组合而成；工件台平面上对应小接送柱的位置开孔，作为小接送柱的升降通道。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||