阵列基板的制造方法及应用其制造的阵列基板

摘要

本发明公开一种阵列基板的制造方法及应用其制造的阵列基板，涉及显示装置技术，解决隔垫物与阵列基板贴合时易产生静电，从而对液晶的控制造成干扰，影响显示效果的问题。阵列基板的制造方法，包括：1，在基板上形成栅极；2，在栅极上依次形成栅极绝缘层，有源层以及源、漏极；3，在源、漏极上形成钝化层，并在相应位置形成过孔；4，在钝化层上依次形成导电材料层和第一光刻胶层；5，对第一光刻胶层进行曝光、显影，在非像素区形成隔垫物、同时在像素区形成第一图案化光刻胶层；6，沿第一图案化光刻胶层对导电材料层进行刻蚀，形成像素电极；7，对基板进行曝光、显影，去除第一图案化光刻胶层。本发明主要用于显示装置生产中。

主权项

一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：步骤1，在基板上形成栅极；步骤2，在所述栅极上沉积形成栅极绝缘层，在所述栅极绝缘层上形成源、漏极以及连接所述源、漏极的有源层；步骤3，在完成步骤2的所述基板上形成钝化层，同时在所述钝化层上相应位置形成过孔；步骤4，在完成步骤3的所述基板上依次形成导电材料层和第一光刻胶层；步骤5，使用掩膜版对所述第一光刻胶层进行曝光、显影，在非像素区形成隔垫物、同时在像素区形成第一图案化光刻胶层；步骤6，沿所述第一图案化光刻胶层对所述导电材料层进行刻蚀，形成像素电极；步骤7，使用掩膜版对完成步骤6的所述基板进行曝光、显影，去除所述第一图案化光刻胶层。