一种半导体硅片蚀刻槽

摘要

本实用新型的一种半导体硅片蚀刻槽，包括带顶板的槽体，所述槽体的顶板上方设置有向上凸起的圆环形凸沿，凸沿内中心的顶板上设置有方形的开口，凸沿配合有可扣合在凸沿内的圆形端盖，端盖顶部设置有把手；所述槽体的侧壁分为内侧壁和外侧壁，所述内侧壁和外侧壁之间设置有通制冷剂的盘管，所述盘管外接有空调压缩机。本实用新型的有益效果是：提高了密封性，防止酸液飞溅对操作人员造成损伤。制冷效果好，能够及时有效地降温，使混合酸液的温度保持在一定范围，保证了整个硅片上或整批硅片上所形成沟槽的一致性。

主权项

一种半导体硅片蚀刻槽，包括带顶板的槽体，其特征在于：所述槽体的顶板上方设置有向上凸起的圆环形凸沿，凸沿内中心的顶板上设置有方形的开口，凸沿配合有可扣合在凸沿内的圆形端盖，端盖顶部设置有把手；所述槽体的侧壁分为内侧壁和外侧壁，所述内侧壁和外侧壁之间设置有通制冷剂的盘管，所述盘管外接有空调压缩机；所述空调压缩机信号连接有控制器，所述槽体内设置有与控制器信号连接的温度传感器。