发明名称 |
193奈米雷射及检测系统;193NM LASER AND INSPECTION SYSTEM |
摘要 |
本发明揭示一种用于产生大致193.4奈米之一输出波长之雷射,该雷射包含一基本波雷射、一光学参数产生器、一四次谐波产生器及一混频模组。耦合至该基本波雷射之该光学参数产生器可产生一经降频转换信号。可耦合至该光学参数产生器或该基本波雷射之该四次谐波产生器可产生一四次谐波。耦合至该光学参数产生器及该四次谐波产生器之该混频模组可产生处于等于该四次谐波与该经降频转换信号之一频率之两倍之一总和之一频率的一雷射输出。 |
申请公布号 |
TW201448384 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW103102817 |
申请日期 |
2014.01.24 |
申请人 |
克莱谭克公司 |
发明人 |
庄勇何;阿姆斯壮 J 乔瑟夫;杜立宾斯基 维拉得摩;邓宇俊;费尔登 约翰 |
分类号 |
H01S3/00(2006.01);G01N21/84(2006.01) |
主分类号 |
H01S3/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>陈长文</name> |
主权项 |
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地址 |
美国 |