发明名称 |
图案形成方法、电子元件及其制造方法;PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME |
摘要 |
本发明的目的在于提供一种可适宜地应用于微细的线与空间图案或孔图案的形成、且膜薄化得到抑制的图案形成方法。所述图案形成方法包括:使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物于基板上形成膜的步骤(1),所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物至少含有具有因酸的作用而分解并产生极性基的基的树脂;对膜进行曝光的步骤(2);以及对经曝光的膜进行显影,而形成图案的步骤(3);步骤(3)是实施利用包含水的显影液进行的步骤A、及利用包含有机溶剂的显影液进行的步骤B中的任一个步骤,其后实施另一个步骤的步骤,且包含有机溶剂的显影液中含有与极性基形成离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少1种相互作用的添加剂。 |
申请公布号 |
TW201447479 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW103115563 |
申请日期 |
2014.04.30 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
古谷创;白川三千紘;后藤硏由;小岛雅史 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01);G03F7/32(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>叶璟宗</name><name>郑婷文</name><name>詹富闵</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |