Optisches Element

摘要

Um sowohl gute Laserbeständigkeit aus auch gute Antireflexionseigenschaften zu ermöglichen, wird ein optisches Element (2), insbesondere für die UV-Lithographie, umfassend ein Substrat (20) und eine Beschichtung auf dem Substrat mit mindestens vier Lagen, vorgeschlagen, bei dem–auf dem Substrat (20) eine erste Lage (21) angeordnet ist, die eine niedrigbrechende anorganische Fluoridverbindung aufweist,–als vom Substrat (20) entfernteste Lage eine Lage (23) angeordnet ist, die eine anorganische oxidhaltige Verbindung aufweist, und–zwischen der ersten (21) und der entferntesten (23) Lage mindestens zwei weitere Lagen (222, 223) angeordnet sind, die abwechselnd eine anorganische Fluoridverbindung oder eine anorganische oxidhaltige Verbindung aufweisen.