发明名称 磁头飞行中磁盘表面润滑膜变化的观测装置
摘要 本实用新型公开了一种存取数据时磁头飞行对磁盘表面润滑膜的影响的实时观测装置,具有较大的观测范围。本实用新型可以模拟磁头读取数据时的完整过程,并且实现磁头从接触到离开磁盘完整过程的磁盘润滑膜的观测,从而快速精确地测量出在磁头飞行中磁盘表面润滑膜的厚度变化,改善了过去观测装置观测范围小的问题,可实现纳米级分辨力和160×160μm<sup>2</sup>范围的观测。本实用新型原理简单,操作简便,便于观测图像后期处理分析。
申请公布号 CN204007525U 申请公布日期 2014.12.10
申请号 CN201420417660.5 申请日期 2014.07.25
申请人 南京信息工程大学 发明人 刘卿卿;李冉
分类号 G01B11/06(2006.01)I;G01N21/21(2006.01)I 主分类号 G01B11/06(2006.01)I
代理机构 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人 顾进;叶涓涓
主权项 一种磁头飞行中磁盘表面润滑膜变化的观测装置,其特征在于:包括光源、第一汇聚透镜、针孔、第二汇聚透镜、起偏器、1/4波片、第三汇聚透镜、分光棱镜、垂直物镜、载物台、实验材料、光纤探针、压电位移驱动器、检偏器、汇聚透镜、CCD相机和计算机;所述第一汇聚透镜、针孔、第二汇聚透镜、起偏器、1/4波片、第三汇聚透镜、分光棱镜沿出射方向依次设置在光源的前方,分光棱镜的分光平面向平行光源倾斜并且与水平方向成45度,所述针孔位于第一汇聚透镜的前焦平面上,所述光源、第一汇聚透镜、针孔、第二汇聚透镜、起偏器、1/4波片、第三汇聚透镜各光轴重合;所述垂直物镜设置在分光棱镜的正上方,所述载物台水平设置于垂直物镜正上方,所述检偏器设置在分光棱镜的正下方,所述第四汇聚透镜设置在检偏器的正下方,所述CCD相机设置在第四汇聚透镜的正下方;所述CCD相机的光轴、第四汇聚透镜的光轴、分光棱镜的竖直光轴、垂直物镜的光轴重合,所述平行光源、第一汇聚透镜、针孔、第二汇聚透镜、起偏器、1/4波片、第三汇聚透镜的光轴偏离主光轴,所述CCD相机与计算机连接,所述计算机驱动压电位移驱动器控制光纤探针移动。
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