一种锗抛光液

摘要

本发明公开了一种用于锗晶片的高效、pH值稳定的抛光液组合物，其组成成分是所占重量百分比为：磨料1％-60％，pH稳定剂1％-8％、表面活性剂0.01％-2％、防腐剂0.001％-0.05％、螯合剂0.01％-1％，余量为超纯水。其特征在于采用本单位自产一次成型双峰粒径硅溶胶为磨料，添加一种高pH稳定剂，可稳定控制pH值在抛光过程中浮动范围＜0.5。该抛光液损伤少，效率高，可同时实现粗抛与精抛相结合，且由于其pH值稳定，大大延长了抛光液的使用寿命。

主权项

一种超大规模集成电路用锗抛光液，其特征在于该抛光液采用自产一次成型双峰粒径硅溶胶为磨料，且加入自配高效pH稳定剂，其组成成分如下： 双峰磨料1％‑60％；              pH稳定剂1％‑8％ 表面活性剂0.01％‑2％；          防腐剂0.001％‑0.05％； 螯合剂0.01％‑1％；              超纯水，余量。