发明名称 基板镀敷装置
摘要 目的在提供一种镀敷装置,其无须在镀敷槽外设置循环泵,即可使流速由镀敷槽的底部至液面为相同,可遍及基板全部区域,使镀敷膜厚成为均一,该镀敷装置系具备有:收容镀敷液的镀敷槽;安装卸下自如地保持基板的基板保持具;与被保持在该基板保持具的基板相对向配置的阳极;由基板观看,旋转自如地被垂设在镀敷液流之上游侧的交叉流叶轮;及该交叉流叶轮的驱动手段。
申请公布号 TW201445010 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW103114014 申请日期 2014.04.17
申请人 杰希优股份有限公司 发明人 吉冈润一郎;村山隆史
分类号 C25D17/02(2006.01) 主分类号 C25D17/02(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林志刚</name>
主权项
地址 日本