发明名称 |
积层体及分离该积层体之方法 |
摘要 |
本发明之积层体具备有光透射性支撑体、由支撑体所支撑之被支撑基板、设于被支撑基板中由支撑体所支撑之侧之面上之接着层,设于支撑体与被支撑基板之间且含有于其重复单位中含有具有光吸收性之构造之聚合物之分离层,聚合物会因吸收介隔支撑体而照射之光而变质。 |
申请公布号 |
TWI462835 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
申请号 |
TW100138889 |
申请日期 |
2011.10.26 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
久保安通史;今井洋文;田村弘毅;吉冈孝广;藤井恭;稻尾吉浩 |
分类号 |
B32B7/02;B32B7/06;B32B27/06;H01L21/683 |
主分类号 |
B32B7/02 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种积层体,其特征为具备:光透射性支撑体、由上述支撑体所支撑之被支撑基板、设于上述被支撑基板之由支撑体所支撑之侧之面上之接着层,及设于上述支撑体与被支撑基板之间且含有于其重复单位中含有具有光吸收性之构造之聚合物之分离层,且上述聚合物会因吸收介隔上述支撑体而照射之光而变质,上述构造为cardo构造、或存在于上述聚合物之侧链上之二苯甲酮构造、二苯基亚碸构造、双苯基碸构造、二苯基构造、二苯基胺构造或苯基苯并三唑构造。 |
地址 |
日本 |