发明名称 水分的除去方法、光纤的焊接方法以及半导体激光模块的制造方法
摘要 本发明提供一种水分的除去方法、光纤的焊接方法以及半导体激光模块的制造方法。本发明所涉及的除去方法是将形成在光纤(10)的一个端面(11a)上的电介质膜(12)所包含的水分除去的方法。在本发明所涉及的除去方法中,使近红外光(L)从光纤(10)的另一个端面(11b)入射,并利用该近红外光(L)对电介质膜(12)所包含的水分进行加热。
申请公布号 CN104160309A 申请公布日期 2014.11.19
申请号 CN201280071154.9 申请日期 2012.12.04
申请人 株式会社藤仓 发明人 坂元明
分类号 G02B6/02(2006.01)I;G02B6/42(2006.01)I 主分类号 G02B6/02(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 舒艳君;李洋
主权项 一种除去方法,是将形成在光纤的一个端面的电介质膜所包含的水分除去的除去方法,其特征在于,包括:加热工序,使近红外光从另一个端面向所述光纤入射,并利用该近红外光对所述电介质膜所包含的水分进行加热。
地址 日本东京都