| 发明名称 |
ガス流処理装置 |
| 摘要 |
【課題】 処理装置のＤＣプラズマトーチの作動可能な出力範囲を増大させることにある。【解決手段】 ガス流処理装置（１０）でのＤＣプラズマトーチの作動範囲を拡大するため、装置は、プラズマ源ガス流量レギュレータ（２４）の選択的制御によりプラズマトーチの出力を制御するように構成された出力コントローラを有している。【選択図】 図１ |
| 申请公布号 |
JP2014529493(A) |
申请公布日期 |
2014.11.13 |
| 申请号 |
JP20140525483 |
申请日期 |
2012.07.11 |
| 申请人 |
エドワーズ リミテッド |
发明人 |
ヴォロニン セルゲイ アレクサンドロヴィッチ;アトウッド マーク ジェイムズ |
| 分类号 |
B01D53/32;B01D53/46;B01D53/58;B01D53/68;B01J19/08;H01L21/31;H05H1/26;H05H1/36 |
主分类号 |
B01D53/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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