ガス流処理装置

摘要

【課題】 電極（アノード）と反応チャンバとの間のプラズマリアクタの乾燥領域の壁への粒子の付着を防止できるガス流処理装置を提供することにある。【解決手段】 本発明は、ガス流１２を処理する装置１０に関する。プラズマ発生器１４はプラズマフレア１６を有している。第１入口１８がガス流を装置内に導入する。プラズマ発生器の下流側には反応チャンバ２０が配置されている。第２入口２２が、液体を装置内に受入れて反応チャンバの内部表面２６上に液体堰を確立し固体堆積物が内部表面上に蓄積することを防止する。堰ガイドすなわちフローディレクタ２８は、液体を反応チャンバの内部表面上に指向させる環状外表面３０と、液体が環状外表面から環状内表面へと流れて環状内表面上に固体堆積物が蒸着するのを防止できるように環状外表面と流れ連通している環状内表面３４とを有している。【選択図】 図１