发明名称 |
外延结构体 |
摘要 |
本发明涉及一种外延结构体,该外延结构体包括:一基底,该基底具有一外延生长面;一第一外延层,其形成于所述基底的外延生长面;一第一碳纳米管层,其设置于所述外延层与基底之间;一第二外延层,其形成于所述第一外延层的远离基底一侧;以及,一第二碳纳米管层,其设置于所述第一外延层与所述第二外延层之间。 |
申请公布号 |
CN102723352B |
申请公布日期 |
2014.11.12 |
申请号 |
CN201110076901.5 |
申请日期 |
2011.03.29 |
申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
发明人 |
魏洋;范守善 |
分类号 |
H01L29/06(2006.01)I;H01L33/20(2010.01)I |
主分类号 |
H01L29/06(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种外延结构体,其包括:一基底、一第一外延层和一第二外延层,该基底具有一外延生长面,该第一外延层形成于所述基底的外延生长面,所述第二外延层形成于所述第一外延层的远离基底的一表面,其特征在于,进一步包括至少二层碳纳米管层,所述至少二层碳纳米管层中的至少一层设置于所述第一外延层与基底之间,至少一层设置于所述第一外延层与第二外延层之间,所述至少二层碳纳米管层均为一连续的整体的自支撑结构。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |