发明名称 |
基板清洗装置及方法、显示装置的制造装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种基板清洗装置、基板清洗方法、显示装置的制造装置及显示装置的制造方法,能够减少清洗工序数且能够防止污染粒子再次附着于基板。实施方式所涉及的基板清洗装置(1)具备:输送部(2),输送基板(W);以及供给喷嘴(3),向被该输送部(2)输送的基板(W)的被清洗面(S)供给清洗液,该清洗液为,在能够除去氧化膜的液体中以溶解状态及微小气泡状态含有氧化性气体;该供给喷嘴(3)以到达被清洗面(S)上的微小气泡一边抑制大小变化一边移动至基板(W)的外缘的流速供给清洗液。 |
申请公布号 |
CN102651327B |
申请公布日期 |
2014.11.12 |
申请号 |
CN201210044963.2 |
申请日期 |
2012.02.24 |
申请人 |
芝浦机械电子株式会社;夏普株式会社 |
发明人 |
寺门秀晃;安藤佳大;西部幸伸;广濑治道;山元良高;田中康一;田中润一 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
徐冰冰;黄剑锋 |
主权项 |
一种基板清洗装置,其特征在于,具备:输送部,输送基板;以及供给喷嘴,向被所述输送部输送的所述基板的被清洗面供给清洗液,该清洗液为,在能够除去氧化膜的液体中以溶解状态及微小气泡状态含有氧化性气体;所述供给喷嘴以到达所述被清洗面上的所述微小气泡一边抑制大小变化一边移动至所述基板的外缘的流速供给所述清洗液。 |
地址 |
日本神奈川县 |