发明名称 环状化合物、其制造方法、感放射线性组成物以及抗蚀图案形成方法
摘要 本发明提供一种对于安全溶剂的溶解性较高、高感光度且所获得的抗蚀图案形状良好、不易发生抗蚀图案崩塌的环状化合物、其制造方法、包含该环状化合物的感放射线性组成物、以及使用该组成物的抗蚀图案形成方法。另外,本发明提供一种具有特定结构的环状化合物、其制造方法、包含该化合物的感放射性组成物、以及使用该组成物的抗蚀图案形成方法。
申请公布号 TWI460153 申请公布日期 2014.11.11
申请号 TW099141040 申请日期 2010.11.26
申请人 三菱瓦斯化学股份有限公司 日本 发明人 高须贺大晃;越后雅敏;冈田悠
分类号 C07C39/12;C07C43/253;G03F7/004;H01L21/027 主分类号 C07C39/12
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种环状化合物,其由下述式(1)表示:[化1](式(1)中,R12独立为选自由碳数为6~20的烷基、碳数为3~20的环烷基、碳数为6~20的芳基、碳数为1~20的烷基矽烷基、以及碳数为2~20的烷基酯基所组成的组群中的官能基,或者氢原子;(其中,至少一个R12为选自由碳数为6~20的烷基、碳数为6~20的环烷基、碳数为6~20的芳基、碳数为1~20的烷基矽烷基、以及碳数为2~20的烷基酯基所组成的组群中的官能基)X独立为选自由氢原子、碳数为1~20的烷基、碳数为3~20的环烷基、碳数为6~20的芳基、碳数为1~20的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基、卤素原子、羧基、碳数为1~20的烷基矽烷基、以及碳数为2~20的烷基酯基所组成的组群中的官能基;R'独立为选自由碳数为1~20的烷基、具有羧基的碳数为1~20的烷基、碳数为3~20的环烷基、具有羧基的碳数为3~20的环烷基、碳数为6~20的芳基、碳数为1~20的烷氧基、氰基、硝基、杂环基、卤素原子、羧基、羟基、碳数为1~20的烷基矽烷基、以及碳数为2~20的烷基酯基所组成的组群中的官能基;(其中,至少一个R'为具有羧基及/或羟基的碳数为1~20的烷基、具有羧基及/或羟基的碳数为3~20的环烷基、或者由下述式[化2]所表示的基,R4为选自由碳数为1~14的烷基、碳数为3~14的环烷基、碳数为6~14的芳基、碳数为1~14的烷氧基、氰基、硝基、杂环基、卤素原子、羧基、羟基、碳数为1~14的烷基矽烷基、以及碳数为2~14的烷基酯基所组成的组群中的官能基,且至少一个R4为羟基或羧基,p为1~5的整数))。
地址 日本