发明名称 一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置及工艺
摘要 本发明涉及一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置及工艺,属于多晶硅制备领域。一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置,所述装置包括炉体,炉体内部设有定向凝固块和置于定向凝固块之上的坩埚;所述定向凝固块下方处设有通气的底部管道(9),底部管道的管口离定向凝固块的距离为2~5cm。本发明所述的装置节省了炉体热场成本、人力成本及熔化阶段的能原消耗,降低生产成本5%,能够节省半熔工艺的熔化、长晶及冷却时间约4h,节省时间成本5%。
申请公布号 CN104131345A 申请公布日期 2014.11.05
申请号 CN201410342848.2 申请日期 2014.07.17
申请人 大连理工大学 发明人 姜大川;李佳艳;谭毅;李鹏廷;任世强
分类号 C30B29/06(2006.01)I;C30B28/06(2006.01)I 主分类号 C30B29/06(2006.01)I
代理机构 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人 赵淑梅;李馨
主权项 一种底部气冷的多晶硅半熔铸锭装置,其特征在于:所述装置包括炉体(2),炉体(2)内部设有定向凝固块(7)和置于定向凝固块(7)之上的坩埚(6);所述定向凝固块(7)下方中央处设有通气的底部管道(9),底部管道(9)的管口离定向凝固块(7)的距离为2~5cm。
地址 116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号