| 发明名称 | 形成离型层的方法 | ||
| 摘要 | 一种在基材上形成硅酮离型层的方法，其用于数字胶印系统的中间转印构件，该方法包括：a)在该基材上提供可固化的第一底漆；b)在该基材上提供可固化的第二底漆；c)在该可固化的第一底漆和第二底漆上提供可固化的硅酮离型组合物；以及d)固化该第一底漆、第二底漆和离型组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN104136510A | 申请公布日期 | 2014.11.05 |
| 申请号 | CN201180075415.X | 申请日期 | 2011.10.27 |
| 申请人 | 惠普深蓝有限责任公司 | 发明人 | 梅里·苏瓦拉;叶夫吉尼亚·鲁杜瓦;雷吉娜·古斯利策;拉亚·斯利夫尼亚克;奥什拉·拉维夫 |
| 分类号 | C08J7/04(2006.01)I;G03G15/16(2006.01)I | 主分类号 | C08J7/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 康泉;王珍仙 |
| 主权项 | 一种在基材(152)上形成硅酮离型层(156)的方法，所述方法用于数字胶印系统的中间转印构件，所述方法包括：a)在所述基材上提供可固化的第一底漆；b)在所述基材上提供可固化的第二底漆；c)在所述可固化的第一底漆和第二底漆上提供可固化的硅酮离型制剂；以及d)固化所述第一底漆、所述第二底漆和所述离型制剂。 | ||
| 地址 | 荷兰阿姆斯特尔芬 | ||