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发明名称
藉由嵌段共聚物之自组装而在基板上提供微影特征之方法;METHODS FOR PROVIDING LITHOGRAPHY FEATURES ON A SUBSTRATE BY SELF-ASSEMBLY OF BLOCK COPOLYMERS
摘要
使具有第一嵌段及第二嵌段之一可自组装嵌段共聚物(BCP)自环绕基板之一微影凹座及该基板上之一虚设凹座的一区迁移至该微影凹座及该虚设凹座内;使该BCP在该微影凹座内自组装成一有序层,该层具有一第一嵌段域及一第二嵌段域;及选择性地移除该第一域以在该微影凹座内形成具有该第二域之一微影特征,其中该虚设凹座之一宽度小于由该BCP进行自组装所需要之最小宽度,该虚设凹座位于环绕该微影凹座的该基板之该区内,使该BCP自该区迁移,且该微影凹座之一侧壁之部分之间的宽度大于该虚设凹座之一侧壁之部分之间的宽度。
申请公布号
TW201441760
申请公布日期
2014.11.01
申请号
TW103109305
申请日期
2014.03.14
申请人
ASML荷兰公司
发明人
威斯特 珊德 弗瑞德瑞克;彼得斯 爱蜜丽
分类号
G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
G03F7/00(2006.01)
代理机构
代理人
<name>林嘉兴</name>
主权项
地址
荷兰
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