| 发明名称 |
镍合金溅镀靶及矽化镍膜 |
| 摘要 |
本发明之课题为提供一种镍合金溅镀靶及由该靶所形成之矽化镍膜，该镍合金溅镀靶可形成热安定之矽化镍(NiSi)膜，且不易引起膜聚集或过度之矽化物化，且溅镀膜形成时颗粒发生少，均匀性亦良好，其更富有塑性加工成靶的特性，尤其有用于制造闸极材料(薄膜)。;本发明之解决手段为一种镍合金溅镀靶，其特征在于含有铂22~46wt%、选自铱、钯、钌之一种成分以上5~100wtppm，而剩余部分由镍及不可避免的杂质所构成。 |
| 申请公布号 |
TWI458836 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
| 申请号 |
TW099102103 |
申请日期 |
2010.01.26 |
| 申请人 |
ＪＸ日鑛日石金属股份有限公司 日本 |
发明人 |
山越康广 |
| 分类号 |
C22C19/03;C23C14/16;C23C14/34 |
主分类号 |
C22C19/03 |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
| 主权项 |
一种镍合金溅镀靶，其特征在于：含有铂22~46wt%、选自铱、钯、钌之1成分以上5~100wtppm，剩余部分由镍及不可避免的杂质所构成。 |
| 地址 |
日本 |
