用于制造薄膜太阳电池之方法与设备

摘要

揭示一种用于制造薄膜电池的方法，其包括提供第一导电层于具有至少0.75m2之面积的基板上。第一导电层系位于该面积之沉积部分。应用紫外线雷射光束经由透镜至第一导电层。刻划部分导电层而形成穿透该层之沟渠。该透镜使光束聚焦并具有至少100mm之焦距。被聚焦之光束包括有效于刻划之有效部分及无效于刻划之无效部分。基板下垂而第一导电层在应用步骤期间维持在被聚焦之光束通过整个面积之有效部分中。提供一或多层活性层于第一导电层上。提供第二导电层于一或多层之活性层上。

主权项

一种用于制造薄膜太阳电池的方法，其包含之步骤：提供第一导电层于基板上，其中该基板具有至少0.75m2之面积，而第一导电层位于该面积之沉积部分中；应用紫外线雷射光束经由透镜至第一导电层，并刻划第一导电层的部分直到基板而形成穿透第一导电层之沟渠，其中该透镜使紫外线雷射光束聚焦并具有大于100mm的焦距，其中被聚焦之紫外线雷射光束包括有效于刻划之有效部份与无效于刻划之无效部分，以及其中基板下垂而使在应用步骤期间被刻划之第一导电层的部分系位于刻划时被聚焦之紫外线雷射光束的有效部分内；提供一或多层活性层于第一导电层上；以及提供第二导电层于一或多层活性层上。