钨烧结体溅镀靶

摘要

一种钨烧结体溅镀靶，其特征在于：磷含量为1wtppm以下，剩余部分系其他不可避免之杂质与钨。因磷含量对钨之异常粒成长与靶之强度的下降有较大影响，尤其是当所含之磷超过1ppm时，钨靶上存在异常粒成长之晶粒，故而，本发明之课题在于，将钨内所含之磷强烈视作有害之杂质、且控制其含量使其尽量少，从而防止钨之异常粒成长与提高靶之产品产率。

主权项

一种钨烧结体溅镀靶，其磷含量为1wtppm以下，剩余部分系其他不可避免之杂质与钨，于超过自表层至1mm之范围，不具有粒径超过500μm之异常成长粒子。