| 发明名称 | 测量方法、载台装置、及曝光装置 | ||
| 摘要 | 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。 | ||
| 申请公布号 | CN104111587A | 申请公布日期 | 2014.10.22 |
| 申请号 | CN201410270424.X | 申请日期 | 2008.07.16 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 荒井大 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01B11/02(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 一种测量方法，是测量载台相对既定构件的位移资讯，其特征在于其具有：在该既定构件设置标尺的步骤；以线膨胀系数较该载台小的支撑构件支撑可检测该标尺的多个检测器并设置于该载台的步骤；以及从该多个检测器的检测结果测量该载台的位移资讯的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都千代田区有乐町一丁目12番1号 | ||