发明名称 |
非晶质矽石质粉末、其制造方法、树脂组成物、及半导体封止材 |
摘要 |
本发明的课题系提供即使高填充无机质填充材,于封止时的黏度低且可进一步提升成形性之半导体封止材。又提供适宜调制像那样的树脂组成物用的非晶质矽石质粉末,与非晶质矽石质粉末之制造方法。;在Si及Al以氧化物换算的含有率为99.5质量%以上之非晶质矽石质粉末中,15μm以上低于70μm之粒度区域的Al含量以氧化物换算为100~30000ppm、3μm以上低于15μm之粒度区域的Al含量以氧化物换算为100~7000ppm,全粒度区域的Al含量以氧化物换算为100~25000ppm。15μm以上低于70μm之粒度区域的Al含量(A)对于3μm以上低于15μm之粒度区域的Al含量(B)的比(A)/(B)系较佳为1.0~20。 |
申请公布号 |
TWI457282 |
申请公布日期 |
2014.10.21 |
申请号 |
TW098119864 |
申请日期 |
2009.06.15 |
申请人 |
电气化学工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
西泰久;佐佐木修治;村田弘 |
分类号 |
C01B33/12;C08K7/10;H01L23/29 |
主分类号 |
C01B33/12 |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
主权项 |
一种非晶质矽石质粉末,其特征在于:15μm以上低于70μm之粒度区域的Al含量以氧化物换算为100~30000ppm、3μm以上低于15μm之粒度区域的Al含量以氧化物换算为100~7000ppm,全粒度区域的Al含量以氧化物换算为100~25000ppm,15μm以上低于70μm之粒度区域的Al含量(A)对于3μm以上低于15μm之粒度区域的Al含量(B)的比(A)/(B)为1.0~20,而且Si及Al以氧化物换算的含有率为99.5质量%以上,平均粒径为5~50μm,平均球形度为0.80以上。 |
地址 |
日本 |