发明名称 |
一种薄膜晶体管、阵列基板和显示装置 |
摘要 |
本发明公开了一种薄膜晶体管、阵列基板和显示装置,该薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极和半导体层,源极和所述漏极不同层设置;半导体层分别与源极和漏极电连接;在半导体层上对应源极和漏极之间的区域为沟道区域。本发明还提供了包括上述薄膜晶体管的阵列基板和显示装置,通过改变构图工艺,使得源极和漏极分别在不同的图层形成,减少薄膜晶体管的沟道长度,一般可以将沟道长度从原来的15um缩短到现在的5um以下,使沟道电阻大幅度减小,缩短沟道距离可以大幅提升薄膜晶体管的充电效率,缩短充电时间,从而提高晶体管的工作效率。由于器件沟道尺寸的缩减,还可以缩小晶体管的面积,有利于实现高集成度的产品。 |
申请公布号 |
CN104091831A |
申请公布日期 |
2014.10.08 |
申请号 |
CN201410302733.0 |
申请日期 |
2014.06.27 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
金熙哲;宋泳锡;刘圣烈;崔承镇 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李相雨 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,其特征在于,包括栅极、源极、漏极和半导体层,所述源极和所述漏极不同层设置;所述半导体层分别与所述源极和所述漏极电连接;在所述半导体层上对应所述源极和所述漏极之间的区域为沟道区域。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |