发明名称 |
横向扩散金属氧化物半导体元件 |
摘要 |
本发明之横向扩散金属氧化物半导体元件包括一基底、一闸极介电层、一闸极多晶矽层、一源极区、一汲极区、一基体区、一第一汲极接触插塞、一源极多晶矽层、一绝缘层、以及一源极金属层。其中,利用于汲极区上方之闸极介电层上设置源极多晶矽层作为场板,用以提升崩溃电压,并且可以提高汲极与源极间电容。另外,藉由本发明之第一汲极接触插塞,可以有效的减少汲极与源极间导通电阻与横向的延伸长度,进而降低功率的耗损且增加元件的积集度。 |
申请公布号 |
TWI455311 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW099114947 |
申请日期 |
2010.05.11 |
申请人 |
大中积体电路股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区笃行一路6号7楼 |
发明人 |
林伟捷;陈和泰;林家福;李柏贤 |
分类号 |
H01L29/78;H01L27/088 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
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代理人 |
吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3 |
主权项 |
一种横向扩散金属氧化物半导体元件,包括:一基底,具有一上表面与一下表面;一闸极介电层,设置于该基底的该上表面上;一闸极多晶矽层,设置于该闸极介电层上;一源极区与一汲极区,均具有一第一导电类型,并分别设置于该闸极多晶矽层之相对两侧之该基底中;一基体区,具有一第二导电类型,包覆该源极区并延伸至该闸极多晶矽层下方之该基底中;一第一汲极接触插塞,设置于该汲极区相对于该源极区之一侧的该基底中,且该第一汲极接触插塞与该汲极区相接触;一源极多晶矽层,设置于该汲极区上方之该闸极介电层上一绝缘层,设置于该基底上并覆盖该闸极多晶矽层、该源极多晶矽层以及该闸极介电层;以及一源极金属层,设置于该绝缘层上。 |
地址 |
新竹市新竹科学工业园区笃行一路6号7楼 |