微影装置

摘要

本发明揭示一种微影装置，该微影装置包括一基板台位置量测系统及一投影系统位置量测系统，该基板台位置量测系统及该投影系统位置量测系统分别用以量测基板台及投影系统之一位置。该基板台位置量测系统包括安装于该基板台上之一基板台参考元件，及一第一感测器头。该基板台参考元件在实质上平行于基板台上之一基板之固持平面的一量测平面中延伸。该固持平面配置于该量测平面之一个侧处，且该第一感测器头配置于该量测平面之一对置侧处。该投影系统位置量测系统包括一或多个投影系统参考元件及一感测器总成。该感测器头及该感测器总成或关联投影系统量测元件安装于一感测器框架上。

主权项

一种微影装置，其包含：一基板台，其包含经组态以将一基板固持于一固持平面中之一固持器；一投影系统，其经组态以在该基板台定位于一曝光区域中时将一经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一实质上振动隔离框架，其支撑该投影系统；一基板台位置量测系统，其经组态以量测该基板台之一位置，其中该基板台位置量测系统包含：一基板台参考元件，其配置于该基板台上；及一第一感测器头，其经组态以判定该第一感测器头相对于该基板台参考元件之一位置，其中该基板台参考元件在实质上平行于该固持平面之一量测平面中延伸，且其中该固持平面配置于该量测平面之一个侧处，且该第一感测器头在该基板台处于该曝光位置中时配置于该量测平面之一对置侧处；一感测器框架，其安装于该微影装置之一子框架上，且其中该第一感测器头安装于该感测器框架上；一投影系统位置量测系统，其经组态以量测该投影系统之一位置，该投影系统位置量测系统包含一投影系统参考元件及一感测器总成，用以判定该感测器总成相对于该等投影系统参考元件之一位置，且其中该感测器总成及该投影系统参考元件中之一者安装于该投影系统上，且该感测器总成及该投影系统参考元件中之另一者安装于该感测器框架上。