发明名称 |
砷污染整治方法和用于此方法的包覆吸附剂的组合物 |
摘要 |
本发明提供了用于形成纳米尺寸的氧化铁或羟基氧化铁粒子分散物的方法,其中所述粒子包覆在载体基片上。本发明还提供了包覆吸附剂的组合物,所述组合物包括吸附在所述基质表面上的纳米尺寸的氧化铁或羟基氧化铁颗粒。本发明还公开了使用所述包覆吸附剂的组合物来降低含水介质中砷水平的方法。本发明还提供了水净化装置,所述水净化装置包括吸附剂层。 |
申请公布号 |
CN104066503A |
申请公布日期 |
2014.09.24 |
申请号 |
CN201180075553.8 |
申请日期 |
2011.12.15 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
K·达斯;S·苏雷什 |
分类号 |
B01J20/24(2006.01)I;C02F1/44(2006.01)I;C02F1/42(2006.01)I |
主分类号 |
B01J20/24(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
林毅斌;林森 |
主权项 |
降低含砷含水介质中砷浓度的方法,所述方法包括:使所述含水介质与包覆吸附剂的基质接触;使砷吸附在所述包覆吸附剂的基质上,其中所述包覆吸附剂的基质包括包覆了氧化铁或羟基氧化铁纳米颗粒的微颗粒基质。 |
地址 |
美国纽约州 |