发明名称 |
用于压印光刻的乙烯基醚抗蚀剂制剂的稳定剂 |
摘要 |
本发明公开了适用于紫外压印光刻应用的涂料组合物,其包含:至少一种乙烯基醚交联剂,其具有至少两个乙烯基醚基团;至少一种稀释剂,其包括单官能乙烯基醚化合物;至少一种光酸产生剂,其可溶于选定的该至少一种单官能乙烯基醚化合物及该至少一种具有至少两个乙烯基醚基团的乙烯基醚交联剂之一或两者中;以及至少一种稳定剂,其包括在酯基位或α位及酯基位上被取代基选择性取代的酯化合物。本发明还公开了压印方法。 |
申请公布号 |
CN102597874B |
申请公布日期 |
2014.09.24 |
申请号 |
CN201080037134.0 |
申请日期 |
2010.07.23 |
申请人 |
国际商业机器公司;JSR株式会社 |
发明人 |
古川泰一;S·A·斯万索恩;F·A·豪尔 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
吴亦华 |
主权项 |
一种涂料组合物,其包含:至少一种乙烯基醚交联剂,其具有至少两个乙烯基醚基团;至少一种稀释剂,其包括单官能乙烯基醚化合物;至少一种光酸产生剂,其可溶于选定的i)该单官能乙烯基醚化合物及ii)该至少一种乙烯基醚交联剂之一或两者;及至少一种稳定剂,其包括在i)酯位或ii)α位及酯位被取代基选择性取代的酯化合物;该至少一种稳定剂具有下式:<img file="FDA0000484678750000011.GIF" wi="665" he="281" />其中该α位的取代基R<sup>1</sup>选自由以下各基团所组成的组:甲基、苯基、蒽基及萘基,该酯位的取代基R<sup>2</sup>选自由以下各基团所组成的组:甲基、异丙基及叔丁基;其中该至少一种稳定剂为该乙烯基醚交联剂与稀释剂成份的总重量的0.1至5重量%。 |
地址 |
美国纽约阿芒克 |