摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element für ein EUV-Optiksystem, insbesondere eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage, mit mindestens einem dreidimensionalem Körper (2, 12, 21, 22, 32), der ein Volumen aufweist, welches aus mindestens einem für EUV-Strahlung mit Wellenlängen unter 30 nm durchstrahlbaren Material gebildet ist, um im Gebrauch zumindest teilweise von EUV-Strahlung durchstrahlt zu werden, wobei der Körper mindestens eine dreidimensionale Struktur (8, 16, 18, 26, 28, 38) aufweist, die so ausgebildet ist, dass die Struktur für das EUV-Licht eine Diffraktion bewirkt, und/oder so ausgebildet ist, dass mehrere Bereiche gebildet sind, welche jeweils eine für das EUV-Licht refraktiv wirkende optische Fläche bereitstellen. Außerdem betrifft die Erfindung die Verwendung derartiger optischer Elemente in EUV-Optiksystemen und derartige EUV-Optiksysteme.</p> |
申请人 |
CARL ZEISS SMT GMBH |
发明人 |
WALD, CHRISTIAN;PAULS, WALTER;BITTNER, BORIS;WABRA, NORBERT;SCHNEIDER, SONJA;SCHNEIDER, RICARDA;WAGNER, HENDRIK;SCHMIDT, HOLGER;PONOMAREV, ALEXEY;AHLES, FLORIAN |