发明名称 中高温光谱选择性吸收涂层
摘要 本发明涉及一种光谱选择性吸收涂层领域,特别涉及一种中高温光谱选择性吸收涂层。该中高温光谱选择性吸收涂层包括五层膜,由内而外依次是基底粘结层、红外反射层、钝化层、第一吸收层、第二吸收层和光学减反射层,所述第一吸收层和所述第二吸收层均为金属陶瓷复合膜,并且所述第一吸收层中金属组分所占的体积百分比大于所述第二吸收层中金属组分所占的体积百分比。本发明提供的中高温光谱选择性吸收涂层,可在中高温环境下工作,其光热转化率高,热稳定性好、工作温度高且吸收发射比高。
申请公布号 CN102954611B 申请公布日期 2014.09.17
申请号 CN201210442227.2 申请日期 2012.11.07
申请人 北京市太阳能研究所集团有限公司 发明人 王轩;张敏;尹万里;崔银芳;孙守建;朱敦智
分类号 F24J2/48(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 F24J2/48(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 韩国胜
主权项 一种中高温光谱选择性吸收涂层,其特征在于,包括五层膜,由内而外依次是基底粘结层、红外反射层、钝化层、第一吸收层、第二吸收层和光学减反射层,所述第一吸收层和所述第二吸收层均为金属陶瓷复合膜,并且所述第一吸收层中金属组分所占的体积百分比大于所述第二吸收层中金属组分所占的体积百分比,所述基底粘结层由Mo或者Mo与不锈钢和Cr中的一种或两种混合而成,基底粘结层的厚度为50~100nm;所述钝化层的材料为Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>或AlN。
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