发明名称 一种用于半导体引线框架表面处理的表面处理床
摘要 本实用新型涉及一种用于半导体引线框架表面处理的表面处理床,包括支架和床体,床体设置在支架上,其特征在于:在床体上从左到右依次设置为电解除油区、三级水洗区、酸活化区、四级水洗区、镀镍区、三级水洗区、镀碱铜区、三级水洗区、镀酸铜区、三级水洗区、预镀银区、三级水洗区、镀银区、三级水洗区、退银区、三级水洗区、镀保护液区、三级水洗区和烘干区。通过该表面处理床处理出来的半导体引线框架镀层附着力强,不易掉落,使用寿命长。
申请公布号 CN203820904U 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201420209068.6 申请日期 2014.04.28
申请人 四川金湾电子有限责任公司 发明人 黄斌;任俊
分类号 C25D5/12(2006.01)I;C25D19/00(2006.01)I 主分类号 C25D5/12(2006.01)I
代理机构 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人 方强
主权项 一种用于半导体引线框架表面处理的表面处理床,包括支架和床体,床体设置在支架上,其特征在于:在床体上从左到右依次设置为电解除油区、三级水洗区、酸活化区、四级水洗区、镀镍区、三级水洗区、镀碱铜区、三级水洗区、镀酸铜区、三级水洗区、预镀银区、三级水洗区、镀银区、三级水洗区、退银区、三级水洗区、镀保护液区、三级水洗区和烘干区。
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