发明名称 一种密接型曝光装置
摘要 本实用新型公开了一种密接型曝光装置,包括固定架和微型液压系统;所述固定架包括上底板、下底板、固定杆和掩膜基片载板,所述固定杆对称设置有两根,所述固定杆支撑在所述上底板和下底板之间,所述上底板中心位置处设置有上底板曝光通光孔,所述掩膜基片载板中心位置处设置有掩膜基片载板曝光通光孔,所述掩膜基片载板设置在所述固定杆上,并且位于所述上底板的下方;所述微型液压系统包括手动液压泵和微型液压缸,所述手动液压泵和微型液压缸之间连接有液压胶管,所述微型液压缸固定在所述下底板上,所述微型液压缸中部包括有一个支撑平板型光刻胶基片用的液压活塞平台;本实用新型适用于密接型光刻场合,结构简单,功能完善,性价比高。
申请公布号 CN203825366U 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201420236380.4 申请日期 2014.05.09
申请人 浙江师范大学 发明人 许富洋
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人 汤东凤
主权项 一种密接型曝光装置,其特征在于:包括固定架和微型液压系统;所述固定架包括上底板、下底板、固定杆和掩膜基片载板,所述固定杆对称设置有两根,所述固定杆支撑在所述上底板和下底板之间,所述上底板中心位置处设置有上底板曝光通光孔,所述掩膜基片载板中心位置处设置有掩膜基片载板曝光通光孔,所述掩膜基片载板设置在所述固定杆上,并且位于所述上底板的下方,所述掩膜基片载板与所述上底板之间留有夹设平板型掩膜基片用的间隙;所述微型液压系统包括手动液压泵和微型液压缸,所述手动液压泵和微型液压缸之间连接有液压胶管,所述微型液压缸固定在所述下底板上,所述微型液压缸中部包括有一个支撑平板型光刻胶基片用的液压活塞平台。
地址 321004 浙江省金华市迎宾大道688号(浙江师范大学)