发明名称 | 一种纳米粒子组装三维结构的制造方法 | ||
摘要 | 本发明涉及使用穿孔图案掩模以纳米粒子组装三维结构的制造方法。本发明包括(1)通过在接地反应器中将具有宽度(w)的穿孔图案的掩模设置在将要刻图的衬底之上的一定距离(d)处,且在所述衬底上施加电压以形成电动聚焦透镜的步骤;和(2)将带电纳米粒子引入,并且引导所述带电纳米粒子通过所述穿孔图案到达衬底,使得所述带电纳米粒子以三维形状聚焦和吸附到所述衬底上的步骤。根据本发明,可以高精度和高效率制造具有不同形状的三维结构,且不会产生噪声图。 | ||
申请公布号 | CN104040687A | 申请公布日期 | 2014.09.10 |
申请号 | CN201380002957.3 | 申请日期 | 2013.03.04 |
申请人 | 首尔大学校产学协力团;多次元能源系统研究集团 | 发明人 | 崔虎燮;崔万秀 |
分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人 | 蔡晓红 |
主权项 | 一种纳米粒子组装三维结构的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:(i)在接地反应器中,将具有穿孔图案的掩模设置在将要刻图的衬底之上的一定距离处,所述穿孔图案与预定图案对应;然后在所述衬底上施加电压,以形成电动聚焦透镜;(ii)将带电纳米粒子引入所述反应器中,并且引导所述带电纳米粒子通过所述穿孔图案到达衬底,使得所述带电纳米粒子以三维形状选择地吸附到所述衬底上。 | ||
地址 | 韩国首尔冠岳区冠岳路1 |