用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置

摘要

本发明公开了一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置。旋转滚子密封装置是在投影透镜组和衬底之间的装置，由内构件、外构件、端盖和滚子组成。在光刻扫描过程中，浸没液体伴随衬底高速运动的牵拉作用，将产生与衬底运动方向一致的液体流动。该装置采用旋转滚子密封结构，通过动态调节滚子的旋转速度与方向，使得外围浸没液体获得抵抗衬底运动带来的流动。本发明可有效抵抗衬底牵拉运动产生的向外泄漏动能，在结合外围气体密封下进一步增强抑制液体泄漏的能力；此外本发明在浸没液体边界处可有效抵抗密封气体带来的冲击压力，并抑制气密封压力过大导致的液体边界气泡卷吸，从而有助于实现浸没流场密封的可靠性与稳定性。

主权项

一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置，包括投影透镜组（1）、旋转滚子密封装置和衬底（3），旋转滚子密封装置设置在投影透镜组（1）和衬底（3）之间；其特征在于：所述的旋转滚子密封装置（2）包括内构件（2A）、外构件（2B）、端盖（2C）和滚子（2D）；其中：1）内构件（2A）：内构件（2A）为正多边形环状柱体，共有6~10个外侧面，每外侧面均开有包络滚子（2D）的弧面（4A），环状柱体中心开有阶梯形孔，环状柱体上表面周边与中心大阶梯孔形成环状凸台（5A），环状凸台（5A）外侧为环形槽；2）外构件（2B）：外构件（2B）为正多边形环状柱体，有与内构件（2A）正多边形环状柱体外侧面相应的内侧面，外构件（2B）内侧面与内构件（2A）的外侧面对应开有包络滚子（2D）的弧面（4B），外构件（2B）上面在靠近弧面（4B）的周边开有环状凸台（5B），在环状凸台（5B）外的外构件（2B）圆周方向开有等距布置的10~20个环形注气通孔（6B）；3）端盖（2C）：端盖（2C）为环状柱体，贯穿端盖（2C）上下表面开有8~16个环形回气通孔（4C），端盖（2C）底面分别于内构件（2A）的环状凸台（5A）和外构件（2B）的环状凸台（5B）紧固连接在一起形成回气腔（6C），回气通孔（4C）位于回气腔（6C）的正上方，回气腔（6C）内填充吸水性多孔介质（8），端盖（2C）中心孔与内构件（2A）中心阶梯孔连通；4）滚子（2D）：滚子（2D）为圆柱体，每个滚子部分包络在内构件（2A）的弧面（4A）和外构件（2B）的弧面（4B）之间，每个滚子（2D）未包络部分的一侧露在内构件（2A）和外构件（2B）下表面外，每个滚子（2D）未包络部分的另一侧露在回气腔（6C）内。