| 发明名称 |
移动体装置、曝光装置及图案形成装置、以及元件制造方法 |
| 摘要 |
移动体装置，具备：测量载台(WST)之一轴(Y轴)方向位置之编码器(28Y)及具备干涉仪(26Y)之Y位置测量系统(20Y)。干涉仪(26Y)，接近编码器(28Y)之测量光(BE)将测量光(B1,B2)照射于设在载台(WST)之反射面(36Y)，并接收其反射光。此处，编码器(28Y)与干涉仪(26Y)，系兼用固定于载台(WST)之光学构件(30Y)。因此，Y干涉仪(26Y)与Y编码器(28Y)具有大致相等之测长轴。 |
| 申请公布号 |
TWI451212 |
申请公布日期 |
2014.09.01 |
| 申请号 |
TW097148139 |
申请日期 |
2008.12.11 |
| 申请人 |
尼康股份有限公司 日本 |
发明人 |
牧野内进 |
| 分类号 |
G03F9/02;G03B27/53;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F9/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
| 主权项 |
一种移动体装置，其具备：移动体，系沿既定平面于至少一轴方向移动；第1测量装置，包含通过一部分包含与该一轴方向平行之第1光路之光路的第1测量光所照射之与该既定平面平行地设于该移动体之上面的透射型移动光栅、该移动光栅产生之绕射光所照射之与该既定平面平行地设于该移动体之上方的反射型固定光栅、以及将来自该固定光栅之绕射光透射该移动光栅加以接受的受光系统，用以测量该移动体于该一轴方向之位置资讯；以及第2测量装置，将通过接近或重叠于该第1光路之与该一轴方向平行之第2光路的第2测量光，照射于与该一轴方向正交且设在该移动体侧面之反射面，藉由接收来自该反射面之反射光，测量该移动体于该一轴方向之位置资讯；该第1测量装置，具有设于该移动体且以对该移动光栅从下方照射该第1测量光之方式使该光路折弯之光学构件。 |
| 地址 |
日本 |
