含氟磺酸盐类、光酸产生剂、抗蚀剂组合物及使用其之图案形成方法

摘要

本发明之抗蚀剂组合物至少含有基础树脂、光酸产生剂及溶剂，且光酸产生剂为下述通式(4)所表示之含氟磺酸盐。;[化102];(4);(式中，X表示氢原子或氟原子，n表示1~6之整数，R1表示氢原子、烷基、烯基、侧氧烷基、芳基、芳烷基，又，R1中所含之碳上之氢原子可经取代基取代，R2表示RAO、RBRCN中之任一者，A表示二价之基)。;该含氟磺酸盐显示对抗蚀剂溶剂高的溶解性而发挥作为光酸产生剂之功能，因此适用于调制在光微影步骤中可形成解像度优异、DOF广、LER小、进而感光度高之优异图案形状之抗蚀剂组合物。

主权项

一种抗蚀剂组合物，其系至少含有基础树脂、光酸产生剂及溶剂而成者，且光酸产生剂为下述通式(4)所表示之含氟磺酸盐，(式中，X分别独立表示氢原子或氟原子，n表示1~10之整数，R1表示氢原子、碳数1~20之烷基、碳数2~20之烯基或侧氧烷基或碳数6~18之芳基或芳烷基，又，R1中所含之碳上之氢原子可经取代基取代，R2表示RAO、RBRCN中之任一者，此处，RA、RB及RC相互独立表示氢原子、碳数1~20之烷基、碳数2~20之烯基、碳数2~20之侧氧烷基、碳数6~18之芳基、碳数6~18之芳烷基、或碳数3~30之内酯基，RB及RC可相互键结而与RBRCN之氮原子(N)一同形成环员数3~18之杂环，又，RA、RB及RC中所含之碳上之氢原子可经取代基取代，R1、RA、RB、RC之取代基分别为选自氟原子、氯原子、溴原子、碘原子之卤素原子、羟基、硫醇基、芳基、「含有选自氟原子、氯原子、溴原子、碘原子之卤素原子或选自氧原子、氮原子、硫原子、磷原子、及矽原子等杂原子之有机基」、或酮基，A表示下式所表示之任一基，M+表示一价阳离子)。