含钛之光阻下层膜形成用组成物及图案形成方法;COMPOSITION FOR FORMING TITANIUM-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM AND PATTERNING PROCESS

摘要

本发明之目的为提供用以形成微细图案之密合性优异、与知之有机膜或含矽膜之蚀刻选择性优异之光阻下层膜之含钛之光阻下层膜形成用组成物。一种含钛之光阻下层膜形成用组成物，特征为含vc有作为(A)成分之含矽之化合物及作为(B)成分之含钛之化合物；该(A)成分系藉由将1种以上之下列通式(A-I)表示之矽化合物予以水解或缩合、或实施此两者而得之含矽之化合物；R 1A a1R 2A a2R 3A a3Si(OR 0A )(4-a1-a2-a3)(A-I) 该(B)成分系藉由将1种以上之下列通式(B-I)表示之水解性钛化合物予以水解或缩合、或实施此两者而得之含钛之化合物Ti(OR 0B )4(B-I)。