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<p>Eine Reaktionskammer enthält ein Substratstützelement, das innerhalb der Reaktionskammer positioniert ist, dass die Reaktionskammer ein erstes Gebiet und ein zweites Gebiet aufweist, eine Abschirmung, die innerhalb des zweiten Gebiets positioniert ist und mit dem Substratstützelement bewegt werden kann, und wobei die Abschirmung wenigstens an eine Bodenfläche des Substratstützelements angrenzt.</p> |
