发明名称 薄膜的制造设备
摘要 本实用新型提供一种薄膜的制造设备,其能够以良好的成品率制造对热的尺寸稳定性优异的薄膜。其是进行薄膜的应力衰减处理的薄膜的制造设备,使用从气体喷射孔对薄膜喷出加热气体来以非接触状态输送薄膜的浮置输送装置(1),在以非接触状态输送薄膜的同时进行应力衰减处理。尤其适合于对聚酰亚胺薄膜的前驱体进行加热处理而得到的聚酰亚胺薄膜的应力衰减处理。
申请公布号 CN203766039U 申请公布日期 2014.08.13
申请号 CN201420148256.2 申请日期 2014.03.28
申请人 宇部兴产株式会社 发明人 伊藤和美;木村征克;小川祐二;广幡大树
分类号 B29C71/02(2006.01)I;B29C31/00(2006.01)I 主分类号 B29C71/02(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 谢顺星;张晶
主权项 一种薄膜的制造设备,其特征在于,具有对薄膜进行应力衰减处理的应力衰减装置,所述应力衰减装置具备浮置输送装置,该浮置输送装置从气体喷射孔对薄膜喷出加热气体,以非接触状态对薄膜进行加热并输送;所述浮置输送装置构成为:具备多个薄膜输送导向器,所述多个薄膜输送导向器具有设置有气体喷射孔的凸曲面状的薄膜输送面,所述薄膜输送导向器的凸曲面交替地在相反方向上排列,从所述气体喷射孔对薄膜喷出加热气体,使薄膜交替地在相反方向上弯曲,以非接触状态输送。
地址 日本山口县